超临界清洗装置

操控简单、维护方便;工艺精细、灵活拓展;更好用,更安全。

用于印刷电路板、晶圆、电子元器件,有效去除焊料残留、助焊剂、颗粒物等污染物;芯片制造封装过程,高效清除芯片表面的尘埃、金属颗粒、有机物残留等杂质;光学镜头、棱镜、滤光片等光学元件,去除沾染的油脂、灰尘、颗粒物等污染物;微型手术器械、医用传感器等精密医疗器械清洗,以及同种异体骨、组织神经清洗;出土文物保护工作,在无损前提下净化文物;催化剂再生,助力清除催化剂表面的积炭、毒物及杂质,恢复活性;核反应设备零部件清洗,实现污染减量化;精密工装清洗,清理复杂零部件微缝微孔中残留的污染物;高档服装服饰织物清洗,包括婴幼儿衣物、女性贴身衣物、贵重饰物清洗等。适用于大学、科研院所、企业实验室、研究中心等单位机构。

功能体验

  • 更好用:将27年所积累的各种物料超临界清洗应用工艺研发经验融入装置设计,助您轻松实现各种创想;
  • 更安全:各参数关键点均并行设置多重独立安全防护,高低搭配、“软硬”结合;
  • 直接观察清洗过程中样品状况,及时调整工艺参数,准确把握清洗进程;
  • 人性化操控界面,参数设定后全自动控制;
  • 精密注入,精密泄压,工艺优化手段更丰富,数据更精准;无损样品、成功率更高;
  • 手感轻松,密封可靠,人员观察、操作和维护时肢体角度舒适,减少科研人员的身体疲劳或损伤,保障工作效能;
  • 更全面掌握工艺流程各关键节点的运行参数,对结果的调整优化手段更加多元,测控数据准确真实有效,结果重现性好,指导成果转化和规模化应用实施。
  • 模块化设计,自由组合,后续可随时扩展、改造和升级,扩展适用范围,增加仪器使用寿命,持续不断地为您输出和创造科研价值;
  • 由卓尔实验室®提供长期技术支持,并提供联合或协同研发服务。

 配置参数

  • 最高操作压力可达30MPa;
  • 最高操作温度可达80℃;
  • 温度控制精度:±0.5℃;
  • 根据不同物料所需清洗工艺,仪器差异化设计提供;
  • 清洗室腔可选500ml、1000ml、5L、10L、20L,29L,其他容积规格可定制;
  • 清洗釜结构及工艺管路针对不同清洗物料差异化设计;
  • 超临界清洗工艺过程控制和安全防护系统;
  • 程序设定、一键启动全自动清洗、远程数据传输监控;
  • 蓝宝石视窗(选配);
  • 辅助搅拌系统转速0~2000转/min,其他转速可定制(选配);
  • 电子背压控制(选配);
  • 质量流量计(选配)。

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